LZ900
LZ900は、株式会社シンクロンが製造・販売する光学薄膜形成装置の一種です。弊社の保有設備は業界一番安く、品質も良好で、アフターフォロー責任を持って対応いたします。
1.LZ900の概要
- LZ900は、EB（電子ビーム）蒸着方式を採用した汎用蒸着装置で、光学薄膜から金属膜まで、成膜に関する幅広い要求に対応できます。
- 基板ドームの直径は約φ700mmで、最大皿径は約φ600mmです。
- 蒸発源はEB×2で、アシストとしてRFイオン源を使用できます。
- 膜厚計は光学式膜厚計と水晶式膜厚計（6点ロータリーセンサ）を採用し、正確な制御を実現します。
- 排気システムはあらびきユニット・ターボ分子ポンプ・マイスナートラップを使用し、オイルフリーでクリーンな環境下で成膜できます。
- 稼働管理システムを搭載し、リアルタイムでの状況把握やロスの解析などに利用できます。
- 仕様を変えることで、反転機構や遊星回転機構などのオプションを追加できます。
2.主な特徴
１）本装置は３室構成により、成膜室をゲートバルブで分離し、常時高真空に維持することが
できるため、膜質の安定化，再現性を向上できます。
２）本装置には、自動排気，運転，自動起動停止などの他、真空計，ドーム移動・回転，
ハース（るつぼ）回転，基板加熱温度，膜厚計や電子銃電源の制御などにも自動制御
方式を採り入れております。
３）本装置の基本プロセスは、基板をセットしたドームを補助室（ＣＨ－１）の下降した
ベースプレート上のキャリアにセットします。ベースプレートが上昇し、排気，加熱
のプロセスを開始します。加熱プロセスが終了しますと成膜室（ＣＨ－２）に移動し
ます。そこで蒸着プロセスが進行し、成膜の終わったドームは元の補助室（ＣＨ－１）
に戻り、ゲートバルブが閉じます。次に補助室（ＣＨ－３）から加熱プロセスが終了
したドームが成膜室（ＣＨ－２）に移動します。蒸着プロセスが進行し、成膜の終わった
ドームは元の補助室（ＣＨ－３）に戻り、冷却プロセスが終了すると補助室をリークします。
ベースプレートが下降しますので、ドームを入換えていただきます。
４）外径約φ７８０の基板ドームがセット可能で、量産性に優れています。
５）蒸発源は電子ビーム加熱方式（１基，１０ｋＷ型）です。
６）ガス導入はＡＰＣ（自動圧力制御方式）方式です。
７）光学的膜厚は光学式膜厚モニタにより制御します。膜厚制御は弊社独自の比率制御法
により高精度の安定した製品を供給することができます。
８）本装置には、停電時や断水時などの事故を防ぐためのインターロック回路や保安装置
が充分組み込まれております。
以下は参考写真ですので、ご希望のアングル部位はお問い合わせよりお申し付けくだされば数日内で送付いたします。
3.装置性能
3．１ 真空性能（当設備新規導入時参考資料）
１）補助室（左）／ＣＨ－１
ａ）到達圧力 ： 室温で １０－５Ｐａ台
ｂ）排気特性 ： 室温において排気開始から１０－３Ｐａ台まで１０分以内
ｃ）ﾋﾞﾙﾄﾞｱｯﾌﾟ量： ７．０×１０－６Ｐａ・ｍ３／ｓ以下
※ 測定条件 真空室内は、清浄・無負荷にて測定します。
※ 測定子 高真空バルブ側面に弊社工場にて校正された真空計測定子を使用します。
２）成膜室／ＣＨ－２
ａ）到達圧力 ： 室温で １０－５Ｐａ台
ｂ）排気特性 ： 室温において補助室から基板ドームの移動が完了しゲートバルブが閉じ
た後、２．０×１０－３Ｐａまで６０秒以内
（ただし補助室の真空度の条件としては１０－３Ｐａ台とします。）
ｃ）ﾋﾞﾙﾄﾞｱｯﾌﾟ量： １．０×１０－5Ｐａ・ｍ３／ｓ以下
※ 測定条件 真空室内は、清浄・無負荷にて測定します。
※ 測定子 高真空バルブ側面に弊社工場にて校正された真空計測定子を使用します。
（参考データとして装置に付属している電離真空計での測定を同時に行います。）
３）補助室（右）／ＣＨ－３
ａ）到達圧力 ： 室温で １０－５Ｐａ台
ｂ）排気特性 ： 室温において排気開始から１０－３Ｐａ台まで１０分以内
（スローあらびきの時間設定は０秒とします。）
ｃ）ﾋﾞﾙﾄﾞｱｯﾌﾟ量： ７．０×１０－６Ｐａ・ｍ３／ｓ以下
※ 測定条件 真空室内は、清浄・無負荷にて測定します。
※ 測定子 高真空バルブ側面に弊社工場にて校正された真空計測定子を使用します。
（参考データとして装置に付属している電離真空計での測定を同時に行い
ます。）
※ 上記以外に１４．１項の貴社ご要求温度分布調整を行います。
3．２ 基板加熱性能（当設備新規導入時参考資料）
１）補助室（左）／ＣＨ－１
マイクロシースヒータ使用時（ＰＩＤ制御）
ａ）温度分布 ： ２５０℃±１０℃
検査方法
※ φ７８０ｍｍ球状ドーム（測定用ドーム）において（ドーム回転静止状態）φ３０ガ
ラスでＫ型熱電対を挟み込んだ温度測定子を４列×３段（計１２点）配置し、各段の
平均値を求めます。
２）成膜室／ＣＨ－２
マイクロシースヒータ使用時（ＰＩＤ制御）
ａ）温度分布 ： ２５０℃±７．５℃
検査方法
※ φ７８０ｍｍ球状ドーム（測定用ドーム）において（ドーム回転静止状態）φ３０ガ
ラスでＫ型熱電対を挟み込んだ温度測定子を４列×３段（計１２点）配置し、各段の
平均値を求めます。
３）補助室（右）／ＣＨ－３
マイクロシースヒータ使用時（ＰＩＤ制御）
ａ）温度分布 ： ２５０℃±１０℃
検査方法
※ φ７８０ｍｍ球状ドーム（測定用ドーム）において（ドーム回転静止状態）φ３０ガ
ラスでＫ型熱電対を挟み込んだ温度測定子を４列×３段（計１２点）配置し、各段の
平均値を求めます。
シンクロン光学用蒸着装置LZ900
4.保管場所：広東省東莞市厚街
保管状態良好、日本、東南アジアへの輸出、搬入据付立上、稼働試験、保守サポートも致します。
タイから買取したシンクロン製光学用真空蒸着装置を、より安価な価格で販売しております。搬送、据付立上げ費用も含まれておりますので、追加の費用は発生いたしません。さらに、アフターフォローも行っておりますので、ご安心ください。
詳細や価格については、お問い合わせいただければメールにてご案内させていただきます。どうぞお気軽にお問い合わせください。